《Plasma Chemistry And Plasma Processing》國際標準刊號?ISSN：0272-4324，電子期刊的國際標準刊號：1572-8986。
創刊時間：1981年
出版周期：Quarterly
出版語言：English
國際簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P
研究方向：工程技術 - 工程：化工
期刊定位與內容：
等離子化學和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的學術刊物，主要報道工程技術-工程：化工相關領域研究成果與實踐。本刊已入選來源期刊，該刊創刊于1981年，出版周期Quarterly。
《等離子化學和等離子處理》發表專家撰寫的簡短易懂的評論，重點介紹工程：化工的最新關鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結，方便尚未深入研究的人閱讀。
本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應用（包括等離子體醫學和農業）、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。
出版周期與發文量：
該雜志出版周期Quarterly。近年來，該期刊的年發文量約為123篇。
學術影響力：
2021-2022年最新版WOS分區等級：Q2，2023年發布的影響因子為2.6，CiteScore指數5.9，SJR指數0.48。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：5.9
- SJR：0.48
- SNIP：0.912
| 學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q1 | 108 / 434 |
75%
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| 大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 34 / 132 |
74%
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| 大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering | Q2 | 79 / 273 |
71%
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| 大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry | Q2 | 119 / 408 |
70%
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CiteScore：該指標由Elsevier于2016年提出，指期刊發表的單篇文章平均被引用次數。CiteScorer的計算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發表的文章在2022年獲得的被引次數，除以該期刊2019年、2020年和2021發表并收錄于Scopus中的文章數量總和。
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