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    Plasma Chemistry And Plasma Processing

    等離子化學和等離子處理 SCIE

    Plasma Chemistry And Plasma Processing

    較慢,6-12周 審稿時間

    3區中科院分區

    Q2JCR分區

    2.6影響因子

    0272-4324

    1572-8986

    PLASMA CHEM PLASMA P

    UNITED STATES

    工程技術 - 工程:化工

    1981

    57

    Quarterly

    English

    123

    0.08...

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    期刊簡介

    等離子化學和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的一本工程技術-工程:化工學術刊物,主要報道工程技術-工程:化工相關領域研究成果與實踐。本刊已入選來源期刊,該刊創刊于1981年,出版周期Quarterly。2021-2022年最新版WOS分區等級:Q2,2023年發布的影響因子為2.6,CiteScore指數5.9,SJR指數0.48。本刊非開放獲取期刊。

    本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應用(包括等離子體醫學和農業)、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。

    中科院分區信息

    等離子化學和等離子處理2023年12月升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區 3區 3區
    等離子化學和等離子處理2022年12月升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 3區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 2區 3區 3區
    等離子化學和等離子處理2021年12月舊的升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區 3區 3區
    等離子化學和等離子處理2021年12月基礎版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區 3區 2區
    等離子化學和等離子處理2021年12月升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區 3區 3區
    等離子化學和等離子處理2020年12月舊的升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 3區 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區 3區 3區
    名詞解釋:

    中科院JCR期刊分區(又稱分區表、分區數據)是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果。在中科院期刊分區表中,主要參考3年平均IF作為學術影響力,最終每個分區的期刊累積學術影響力是相同的,各區的期刊數量由高到底呈金字塔式分布。

    JCR分區信息

    Plasma Chemistry And Plasma Processing(2023-2024年最新版數據)
    按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
    學科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170
    46.8%
    學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179
    55%
    學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40
    71.3%
    按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
    學科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171
    68.13%
    學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179
    61.73%
    學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40
    58.75%
    名詞解釋:

    湯森路透每年出版一本《期刊引用報告》(Journal Citation Reports,簡稱JCR)。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數加以統計。JCR將收錄期刊分為176個不同學科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當年IF,最終每個分區的期刊數量是均分的。

    期刊數據統計

    1、Cite Score(2024年最新版)
    學科類別 分區 排名 百分位
    大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 108 / 434
    75%
    大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132
    74%
    大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemical Engineering Q2 79 / 273
    71%
    大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemistry Q2 119 / 408
    70%
    名詞解釋:

    CiteScore:該指標由Elsevier于2016年提出,指期刊發表的單篇文章平均被引用次數。CiteScorer的計算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發表的文章在2022年獲得的被引次數,除以該期刊2019年、2020年和2021發表并收錄于Scopus中的文章數量總和。

    2、綜合數據
    3、本刊綜合數據對比及走勢

    文章引用數據

    文章名稱 引用次數
    • Effect of Cold Atmospheric Pressure Plas...

      23
    • Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Ind...

      14
    • Inactivation of Shewanella putrefaciens ...

      13
    • Seed Priming with Non-thermal Plasma Mod...

      13
    • Stimulation of the Germination and Early...

      12
    • Evaluation of Oxidative Species in Gaseo...

      12
    • Non-thermal Plasma Induced Expression of...

      11
    • Effect of the Magnetic Field on the Magn...

      9
    • On the Possibilities of Straightforward ...

      8
    • Plasma Activated Organic Fertilizer

      8

    期刊被引用數據

    期刊名稱 引用次數
    • PLASMA CHEM PLASMA P

      289
    • J PHYS D APPL PHYS

      241
    • IEEE T PLASMA SCI

      106
    • PLASMA SCI TECHNOL

      95
    • CHEM ENG J

      92
    • PLASMA SOURCES SCI T

      82
    • PLASMA PROCESS POLYM

      79
    • PHYS PLASMAS

      48
    • SURF COAT TECH

      46
    • J APPL PHYS

      39

    期刊引用數據

    期刊名稱 引用次數
    • J PHYS D APPL PHYS

      308
    • PLASMA CHEM PLASMA P

      289
    • PLASMA SOURCES SCI T

      186
    • IEEE T PLASMA SCI

      101
    • PLASMA PROCESS POLYM

      97
    • J APPL PHYS

      74
    • CHEM ENG J

      69
    • APPL PHYS LETT

      64
    • APPL CATAL B-ENVIRON

      58
    • J CHEM PHYS

      53

    國家/地區發文數據

    國家/地區名 數量
    • CHINA MAINLAND

      70
    • Russia

      37
    • USA

      29
    • France

      26
    • GERMANY (FED REP GER)

      21
    • Czech Republic

      15
    • Iran

      14
    • India

      12
    • Japan

      12
    • Poland

      11

    機構發文數據

    機構名 數量
    • RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES

      24
    • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF...

      21
    • CZECH ACADEMY OF SCIENCES

      10
    • XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY

      10
    • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

      9
    • DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY

      9
    • COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA

      7
    • IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & ...

      7
    • STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA

      7
    • KOREA UNIVERSITY

      6

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