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    《Journal Of Electrochemical Science And Technology》雜志屬于幾區?影響因子是多少?

    來源:好投稿網整理 2024-09-19 18:37:29

    《Journal Of Electrochemical Science And Technology》雜志屬于中科院分區:4區,影響因子是:2.2。

    出版周期:4 issues/year

    OA是否開放:開放

    Gold OA文章占比:97.90%

    是否預警:否

    出版語言:English

    中科院分區信息:

    從大類學科分區來看,《Journal Of Electrochemical Science And Technology》雜志在中科院最新升級版分區表中位于工程技術4區。工程技術是一個廣泛的學科領域,涵蓋了從電化學的各個層面。該雜志能夠躋身4區,足以證明其在工程技術領域內的學術水平和影響力。

    進一步細分到小類學科,該雜志則屬于ELECTROCHEMISTRY電化學領域,位于4區。

    中科院分區信息

    電化學科學與技術雜志2023年12月升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 4區
    ELECTROCHEMISTRY 電化學
    4區
    電化學科學與技術雜志2022年12月升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 4區
    ELECTROCHEMISTRY 電化學
    4區
    電化學科學與技術雜志2021年12月舊的升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 4區
    ELECTROCHEMISTRY 電化學
    4區
    電化學科學與技術雜志2021年12月基礎版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 4區
    ELECTROCHEMISTRY 電化學
    4區
    電化學科學與技術雜志2021年12月升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 4區
    ELECTROCHEMISTRY 電化學
    4區
    電化學科學與技術雜志2020年12月舊的升級版
    大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
    工程技術 4區
    ELECTROCHEMISTRY 電化學
    4區
    名詞解釋:

    中科院JCR期刊分區(又稱分區表、分區數據)是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果。在中科院期刊分區表中,主要參考3年平均IF作為學術影響力,最終每個分區的期刊累積學術影響力是相同的,各區的期刊數量由高到底呈金字塔式分布。

    影響因子:2.2。從影響因子的角度來看,《Journal Of Electrochemical Science And Technology》雜志也表現出色,該雜志影響因子在不同年份有所波動,但總體呈上升趨勢,這種趨勢不僅反映了該雜志在學術界的影響力逐漸增強,也體現了其在推動ELECTROCHEMISTRY領域發展方面的積極作用。

    從JCR分區信息的角度, 按JIF指標學科分區分為:ELECTROCHEMISTRY,分區:Q3,排名:33 / 45,百分位:27.8%;
    按JCI指標學科分區分為:ELECTROCHEMISTRY,分區:Q3,排名:28 / 45,百分位:38.89%;

    JCR分區信息

    Journal Of Electrochemical Science And Technology(2023-2024年最新版數據)
    按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
    學科:ELECTROCHEMISTRY SCIE Q3 33 / 45
    27.8%
    按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
    學科:ELECTROCHEMISTRY SCIE Q3 28 / 45
    38.89%
    名詞解釋:

    湯森路透每年出版一本《期刊引用報告》(Journal Citation Reports,簡稱JCR)。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數加以統計。JCR將收錄期刊分為176個不同學科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當年IF,最終每個分區的期刊數量是均分的。

    聲明:本信息依據互聯網公開資料整理,若存在錯誤,請及時聯系我們及時更正。

    影響因子:2.2

    ?ISSN:2093-8551

    EISSN:2288-9221

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