《標(biāo)簽技術(shù)》雜志論文格式要求:
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②作者署名作者姓名在題名下按順序排列,在編排過(guò)程中不應(yīng)再作改動(dòng),確須改動(dòng)時(shí)必須出示單位證明。
③文章中的圖表應(yīng)具有代表性,表格使用三線表;圖片稿為T(mén)IF或JPG格式,像素不小于1M;計(jì)量單位請(qǐng)以國(guó)務(wù)院頒布的《中華人民共和國(guó)法定計(jì)量單位》為準(zhǔn)。
④參考文獻(xiàn)限為作者親自閱讀、公開(kāi)發(fā)表過(guò)的文獻(xiàn),只選主要的列入,采用順序編碼制著錄,按其文中出現(xiàn)的先后順序用阿拉伯?dāng)?shù)字編號(hào),列于文末,并依次將各編號(hào)外加方括號(hào)置于文中引用處的右上角。書(shū)寫(xiě)格式為:作者.文題.刊名年份;年(期):起始頁(yè).網(wǎng)上參考材料序號(hào).作者.文題網(wǎng)址(至子--欄目).上傳年月。
⑤文章和力求取材新穎、論點(diǎn)明確、論據(jù)充分、論述簡(jiǎn)潔,資料、數(shù)據(jù)和反映的內(nèi)容務(wù)求核實(shí)準(zhǔn)確。
基本信息
《標(biāo)簽技術(shù)》雜志是由中國(guó)文化產(chǎn)業(yè)發(fā)展集團(tuán)有限公司主管,中國(guó)印刷科學(xué)技術(shù)研究院有限公司主辦的國(guó)內(nèi)外公開(kāi)發(fā)行的學(xué)術(shù)理論期刊,創(chuàng)刊于2011年,是國(guó)內(nèi)科技領(lǐng)域具有廣泛影響力的權(quán)威刊物。
該雜志國(guó)內(nèi)刊號(hào)為10-1254/TS,國(guó)際刊號(hào)為2095-8269,現(xiàn)被知網(wǎng)收錄(中)、維普收錄(中)、萬(wàn)方收錄(中)、國(guó)家圖書(shū)館館藏、上海圖書(shū)館館藏等權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)收錄。
此外,還榮獲多項(xiàng)榮譽(yù),如:中國(guó)優(yōu)秀期刊遴選數(shù)據(jù)庫(kù)、中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù)(CJFD)等,這些都體現(xiàn)了該雜志在推動(dòng)科技理論與實(shí)踐發(fā)展方面的重要貢獻(xiàn)。
欄目設(shè)置
《標(biāo)簽技術(shù)》雜志欄目涵蓋科技領(lǐng)域多個(gè)維度,包括:研究報(bào)告、文獻(xiàn)綜述、簡(jiǎn)報(bào)、專(zhuān)題研究等。
作為一本具有較高學(xué)術(shù)水平和影響力的科技雜志,多年來(lái)一直致力于推動(dòng)科技領(lǐng)域的改革與發(fā)展,為科技工作者和研究者提供了一個(gè)交流和探索的平臺(tái),對(duì)促進(jìn)我國(guó)科技事業(yè)的發(fā)展起到了積極的作用。
《標(biāo)簽技術(shù)》雜志往年文章平均引文率
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