首頁(yè) > 期刊 > 自然科學(xué)與工程技術(shù) > 信息科技 > 無(wú)線電電子學(xué) > 應(yīng)用激光 > 選區(qū)激光熔化AlSi10Mg應(yīng)力場(chǎng)數(shù)值模擬研究 【正文】
摘要:采用ANSYS有限元軟件,利用熱—結(jié)構(gòu)間接耦合的方法建立單層多道的應(yīng)力場(chǎng)模型,對(duì)選區(qū)激光熔化AlSi10Mg應(yīng)力場(chǎng)進(jìn)行模擬。分析r內(nèi)應(yīng)力的分布和演變規(guī)律,以及不同曝光時(shí)間和點(diǎn)間距對(duì)殘余應(yīng)力的影響。研究發(fā)現(xiàn),溫度均勻化后熔池搭接區(qū)域的殘余應(yīng)力高(最高殘余應(yīng)力),中心區(qū)域的殘余應(yīng)力低(最低殘余應(yīng)力)。隨著ET和PD的增加,最高殘余應(yīng)力逐漸增大。然而,進(jìn)一步增加PD,缺陷的形成導(dǎo)致應(yīng)力有所降低。隨著ET的增加和PD的降低,最低殘余應(yīng)力增加。
注:因版權(quán)方要求,不能公開(kāi)全文,如需全文,請(qǐng)咨詢(xún)雜志社