首頁 > 期刊 > 自然科學與工程技術 > 工程科技II > 綜合科技B類綜合 > 鹽城工學院學報·自然科學版 > 磁控濺射制備Cu-Al合金薄膜及光吸收性能研究 【正文】
摘要:為使沉積態Cu-Al合金薄膜有顯著的表面等離子體共振(SPR)吸收峰,采用磁控濺射法分別制備了純Cu、純Al和Cu-Al合金薄膜,并采用X射線衍射儀、紫外-可見分光光度計對其物相和光吸收性能進行了測試。結果表明,不連續的較薄Cu膜在沉積態下可觀察到540 nm處的吸收峰,較厚的Cu膜通過在400℃下進行1 h熱處理可在400 nm處獲得微弱的吸收峰。沉積態的Al膜在可見光范圍內無吸收峰,在熱處理后,不連續的較薄Al膜可獲得580 nm處的吸收峰,而較厚Al膜通過長時間熱處理后可獲得730 nm處的吸收峰。共濺射制得的較薄Cu-Al合金薄膜無須經過熱處理,即可在可見光范圍內獲得吸收峰。
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