摘要：采用磁控濺射法,通過改變氬氮比率,在Si(100)襯底上成功制備了W2N薄膜,當氬氮比率為20:6時薄膜的結晶性最好.為了改善W2N薄膜的力學和摩擦學性能,采用射頻和直流磁控共濺射方法分別在Si(100)和A304不銹鋼襯底上制備了軟質金屬Y和硬質金屬Cr共摻雜的W2N(Y-Cr:W2N)薄膜.在摻雜功率20~50 W范圍內,當摻雜功率為30 W時,薄膜具有最大硬度,為23.71 GPa,此時樣品的彈性模量為256.34 GPa;當摻雜功率為20 W時,薄膜的平均磨擦系數最小,為0.37.這表明,金屬Y和Cr的摻入使W2N薄膜的力學和摩擦學性能有了很大的改善.