納米光刻雙光柵對準莫爾條紋分析

摘要：為了給實際的納米光刻對準工作提供理論研究基礎，主要分析推導了莫爾條紋復振幅以及光強的空間分布規律。在理論分析的基礎上通過仿真，定量地確定了莫爾條紋復振幅分布的近似數學模型。分析表明，當對準光路通過掩模硅片上的兩個對準標記受到兩次光柵的調制并發生復雜的衍射和干涉時，將形成有規律的、呈一定周期分布的莫爾條紋。并且當兩光柵周期相近時，莫爾條紋將表現為一個與兩光柵周期相關的空間拍信號。在近似模型中該拍信號主要由兩光柵基頻的乘積調制與振幅調制信號組成。兩調制信號的群峰值周期相等、與拍信號的群峰值周期一致，并且該周期相對于兩光柵周期被大幅度放大，因而具有很好的位移探測靈敏度，有利于納米級對準的實際應用。