導(dǎo)流塊深度對圓弧形凹面腔內(nèi)激波聚焦過程的影響

摘要：為研究導(dǎo)流塊深度對圓弧形凹面腔內(nèi)徑向入射激波聚焦過程的影響,對馬赫數(shù)為1.4的徑向入射激波在導(dǎo)流塊深度分別為0、5、10、15、17.5、20、25 mm的凹面腔內(nèi)反射聚焦過程進行了實驗研究。用高速CCD拍攝了圓弧形凹面腔中氣流流場紋影照片,并用動態(tài)壓力傳感器測量了聚焦過程中流場的壓力變化,對徑向入射激波在凹面腔內(nèi)的反射聚焦過程進行了描述。通過對比不同導(dǎo)流塊深度下激波反射聚焦過程,發(fā)現(xiàn)隨著導(dǎo)流塊深度的增加,凹面腔出口寬度減少,氣流的排出受到限制,導(dǎo)致凹面腔內(nèi)部的湍流度增強,由于受到湍流的較強影響,內(nèi)部激波結(jié)構(gòu)減弱,從而對于激波聚焦產(chǎn)生高溫高壓區(qū)產(chǎn)生影響,不利于激波觸發(fā)爆震。