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    氬氣壓對磁控濺射制備CdZnTe薄膜形貌、結構和電學特性的影響

    《功能材料》 不詳
    • cdznte
    • 遷移率
    • 薄膜成分
    • 磁控濺射
    • 薄膜形貌

    摘要:引言碲鋅鎘(CdZnTe,CZT)是一種性能優異的Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體材料,具有高原子序數、高電阻率、優良的載流子輸運特性等優點[1-3]。相對于體晶體,CZT薄膜可進行大面積制備,在太陽能電池、工業和醫療用X射線成像等領域具有重要應用前景[4-5].真空蒸鍍、磁控濺射、近空間升華等方法均曾被應用于CZT薄膜的制備[1,6]。其中磁控濺射法的優點是薄膜均勻性好、成分可控,可低溫制備等[7-7].人們曾經研究過濺射功率、襯底溫度.

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